Objetivo de titanio

Pureza
Purity is one of the main performance indicators of the target, because the purity of the target has a great influence on the performance of the film. However, in practical applications, the purity requirements for the target are not the same. For example, with the rapid development of the microelectronics industry, the silicon chip size has been developed from 6", 8" to 12", while the wiring width has been reduced from 0 . 5um a 0 . 25um, 0.18um o incluso 0.13um, y el 99.995% de pureza objetivo puede cumplir con los requisitos de proceso de 0.35umic.
Contenido de impureza
Las impurezas en los sólidos objetivo y el vapor de oxígeno y agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de las películas depositadas . Los objetivos para diferentes fines tienen diferentes requisitos para diferentes contenido de impurezas ., por ejemplo, los objetivos de aluminio puro y aleación de aluminio utilizados en la industria de los semiconductores tienen requisitos especiales para el contenido de metal alkali y el contenido de elementos radiactivos {2 {2 {2.}}}}}
Densidad
Para reducir la porosidad en el sólido objetivo y mejorar el rendimiento de la película pulverizada, el objetivo generalmente se requiere que tenga una alta densidad . La densidad del objetivo no solo afecta la velocidad de pulverización, sino que también afecta las propiedades eléctricas y ópticas de la película .} más alta la densidad del material del objetivo, mejor la actuación de la película de la película. La resistencia del objetivo hace que el objetivo sea mejor capaz de resistir el estrés térmico durante la densidad de pulverización . también es uno de los índices de rendimiento clave del material objetivo .