Papel de los objetivos de titanio en el recubrimiento PVD
Los objetivos de pulverización catódica de titanio se utilizan para depositar películas-a base de titanio en herramientas, piezas decorativas, componentes electrónicos, ópticos y muestras de investigación. En muchos sistemas de recubrimiento, la calidad objetivo afecta la estabilidad de la película, la uniformidad del recubrimiento y la repetibilidad del proceso.
Grado y pureza
Los compradores deben confirmar si la aplicación requiere titanio comercialmente puro, titanio de alta-pureza o un objetivo de aleación de titanio. La pureza, el contenido de oxígeno y el control de impurezas pueden ser críticos para las aplicaciones electrónicas y de investigación, mientras que los proyectos de recubrimientos industriales pueden centrarse más en dimensiones estables y utilización objetivo.
- Formas comunes: objetivo redondo, objetivo rectangular y objetivo plano personalizado
- Requisitos típicos: diámetro, espesor, placa de soporte, tipo de unión y rugosidad de la superficie.
- Embalaje: bolsa de vacío, protección anti-oxidación y caja de cartón o madera para exportación
Preguntas antes de la cotización
Una consulta completa debe incluir la forma, el tamaño, la pureza, la cantidad del objetivo, el modelo del equipo de pulverización catódica con magnetrón, si está disponible, y si se necesita servicio de unión. Si el objetivo se utilizará en una línea de recubrimiento crítica, los clientes también deben especificar los requisitos de inspección y las tolerancias aceptables.
Capacidad de metal CLJZ
CLJZ Metal suministra objetivos de pulverización catódica de titanio, circonio, níquel, tungsteno, molibdeno, tantalio y niobio. Con capacidad de corte y mecanizado personalizado, la empresa puede respaldar lotes de prueba, pedidos de investigación y suministro de objetivos industriales para clientes de recubrimiento PVD.